的(de)(de)(de)(de)跑驚時(shi)時(shi)，真空室內(nei)殘余氣(qi)(qi)體(ti)(ti)分(fen)子中，燕氣(qi)(qi)分(fen)子的(de)(de)(de)(de)平均自由程(cheng)大于蒸(zheng)發展與基片的(de)(de)(de)(de)距寒時(shi)，就會獲得充分(fen)的(de)(de)(de)(de)便服(fu)條件。因此，把真空室抽成兩其空，頂少現示氣(qi)(qi)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)(de)分(fen)子數、增大殘余氣(qi)(qi)體(ti)(ti)分(fen)子的(de)(de)(de)(de)平均自由程(cheng)，使(shi)得蒸(zheng)氣(qi)(qi)分(fen)子與殘余氣(qi)(qi)體(ti)(ti)分(fen)子的(de)(de)(de)(de)碰撞機會減少，這(zhe)是非常必要的(de)(de)(de)(de)。

　　當真(zhen)空(kong)度(du)(du)提(ti)高時(shi)，蒸氣分子(zi)從蒸發(fa)源到基片的(de)過程中，與殘余分子(zi)碰撞(zhuang)的(de)概率下降(jiang)。因此，真(zhen)空(kong)鍍鋁時(shi)在(zai)6X 10-2Pa以(yi)上能形成良好的(de)膜層。當真(zhen)空(kong)度(du)(du)低(di)時(shi)，會(hui)出(chu)現下述兩種(zhong)情況:

　　①基(ji)(ji)片表(biao)面吸附著(zhu)許多(duo)殘余(yu)氣(qi)體分(fen)子(zi)(zi)，當蒸發材料(liao)的(de)(de)蒸氣(qi)分(fen)子(zi)(zi)到(dao)達基(ji)(ji)片之后，在基(ji)(ji)片表(biao)面殘余(yu)氣(qi)體分(fen)子(zi)(zi)與蒸發材料(liao)的(de)(de)蒸氣(qi)分(fen)子(zi)(zi)將(jiang)產生(sheng)化合作用(yong)，所(suo)形成的(de)(de)化合物影(ying)響膜的(de)(de)質量。

　　②蒸發(fa)材料的(de)(de)(de)蒸氣分(fen)子(zi)到達(da)基(ji)片表面(mian)的(de)(de)(de)過程中與殘余氣體(ti)分(fen)子(zi)發(fa)生(sheng)碰撞的(de)(de)(de)概(gai)率增加，使得蒸發(fa)材料蒸氣分(fen)子(zi)消(xiao)耗大量的(de)(de)(de)動能(neng)，以致達(da)不到基(ji)片表面(mian)，即使到達(da)基(ji)片表面(mian)，其(qi)吸附性能(neng)也會大大降低(di)(di)。因此膜層(ceng)松散無力(li)，嚴重時出現粉末狀的(de)(de)(de)附著(zhu)，一(yi)擦即脫落(luo)。在實際生(sheng)產(chan)中觀察到，真(zhen)(zhen)空(kong)室的(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)度(du)低(di)(di)于10--Pa時，鋁(lv)膜呈灰色，其(qi)附著(zhu)力(li)降低(di)(di)，當(dang)真(zhen)(zhen)空(kong)度(du)更(geng)低(di)(di)時，鋁(lv)膜呈黑(hei)色，附著(zhu)力(li)很低(di)(di)。