鍍膜(mo)玻璃(li)(li)生產技術目前(qian)我國實際(ji)生產當中，幾乎所有鍍膜(mo)膜(mo)方法都(dou)可以生產陽光(guang)控(kong)制鍍膜(mo)玻璃(li)(li)，以其他如真空蒸鍍法、主要以在線(xian)CVD工藝方法和磁控(kong)濺射工藝方法兩種為主，這主要介紹采(cai)用在線(xian)CVD工藝生產硅質(zhi)膜(mo)玻璃(li)(li)。

　　鍍膜玻璃生產原理

　　在(zai)線CVD制(zhi)備硅(gui)(gui)質膜(mo)技(ji)術是以(yi)硅(gui)(gui)烷(wan)、乙(yi)烯(xi)為(wei)原料，浮法錫(xi)槽為(wei)制(zhi)備硅(gui)(gui)質膜(mo)提(ti)供了適合的(de)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)和(he)(he)還原性(xing)氣(qi)氛(fen)。硅(gui)(gui)烷(wan)、乙(yi)烯(xi)和(he)(he)氮(dan)氣(qi)按一(yi)定(ding)的(de)比例進(jin)人安(an)置在(zai)玻璃板上面的(de)反應器(qi)，并以(yi)穩定(ding)的(de)層(ceng)流方式(shi)流過玻璃板表面，這時，硅(gui)(gui)烷(wan)借助反應器(qi)的(de)特(te)殊結(jie)構(gou)，并在(zai)還原氣(qi)氛(fen)的(de)條件下(xia)，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)超過400C時開(kai)始分解(jie)，形成的(de)產(chan)物是無定(ding)形硅(gui)(gui)，當溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)超過600C時，形成多(duo)晶硅(gui)(gui)。多(duo)晶硅(gui)(gui)沉積在(zai)玻璃表面形成硅(gui)(gui)質膜(mo)層(ceng)，同時硅(gui)(gui)烷(wan)反應后產(chan)生(sheng)的(de)氫被乙(yi)烯(xi)吸附，生(sheng)成乙(yi)烷(wan)和(he)(he)甲烷(wan)。這些多(duo)余(yu)氣(qi)體(ti)和(he)(he)呈褐色(se)的(de)多(duo)余(yu)硅(gui)(gui)質粉(fen)一(yi)起從反應器(qi)兩側的(de)排(pai)氣(qi)孔(kong)排(pai)走