研磨(mo)(mo)后(hou)的(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃(li)表(biao)面(mian)(mian)有凹陷層(ceng)(ceng)，下面(mian)(mian)還有裂收展，因此玻(bo)璃(li)表(biao)面(mian)(mian)是敢光(guang)(guang)而不透(tou)明的(de)(de)(de)(de)。必須(xu)(xu)把四陷層(ceng)(ceng)及裂紋(wen)層(ceng)(ceng)都拋(pao)(pao)去(qu)(qu)(qu)才能獲得光(guang)(guang)亮的(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃(li)。因而，總(zong)(zong)計要(yao)拋(pao)(pao)去(qu)(qu)(qu)玻(bo)璃(li)層(ceng)(ceng)厚度10~15m.對(dui)于(yu)光(guang)(guang)學玻(bo)璃(li)等要(yao)求高(gao)的(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃(li)，必須(xu)(xu)把個別最大的(de)(de)(de)(de)裂紋(wen)也拋(pao)(pao)去(qu)(qu)(qu)，則總(zong)(zong)拋(pao)(pao)去(qu)(qu)(qu)厚度還要(yao)多、在一般生產條(tiao)件下，玻(bo)璃(li)的(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)速(su)度僅(jin)為8~15pm/h.因此所需要(yao)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)時間(jian)比(bi)研磨(mo)(mo)時間(jian)長得多。減(jian)小玻(bo)璃(li)研磨(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)凹陷深度就(jiu)是縮短拋(pao)(pao)光(guang)(guang)時間(jian)，常常在研磨(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)最后(hou)階段用細一些的(de)(de)(de)(de)膺料(liao)或(huo)軟(ruan)質的(de)(de)(de)(de)研磨(mo)(mo)盤(pan)等措施來獲得研磨(mo)(mo)表(biao)面(mian)(mian)淺的(de)(de)(de)(de)凹陷層(ceng)(ceng)。另外(wai)采用合適的(de)(de)(de)(de)工藝(yi)條(tiao)件，也能提高(gao)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)效率而縮短加工時間(jian)，影響拋(pao)(pao)光(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)工藝(yi)因素分述如下。

　　(1)拋光材料的(de)性質、濃(nong)度和給料量

　　水在拋(pao)光(guang)(guang)過(guo)(guo)程(cheng)中(zhong)(zhong)比在研磨(mo)過(guo)(guo)程(cheng)中(zhong)(zhong)所(suo)起的(de)化學物理化學作用(yong)更為(wei)明顯，因此(ci)拋(pao)光(guang)(guang)懸浮液濃度對拋(pao)光(guang)(guang)效(xiao)(xiao)(xiao)率的(de)影響(xiang)是很(hen)敏感的(de)，若(ruo)使用(yong)紅(hong)粉(fen)，一(yi)般以密度1. 10~1.14g cm2為(wei)宜(yi)。剛開始拋(pao)光(guang)(guang)時，采用(yong)較(jiao)(jiao)高的(de)濃度，以便拋(pao)光(guang)(guang)盤吸(xi)收較(jiao)(jiao)多的(de)紅(hong)粉(fen)，玻(bo)璃表(biao)面溫度也可提高，拋(pao)光(guang)(guang)效(xiao)(xiao)(xiao)阜高。但拋(pao)光(guang)(guang)的(de)后-階段則逐步降(jiang)(jiang)低，否則玻(bo)璃表(biao)面溫度過(guo)(guo)高易破裂，同時紅(hong)粉(fen)也易于在拋(pao)光(guang)(guang)盤表(biao)面形成硬膜，使玻(bo)璃表(biao)面擦傷。拋(pao)光(guang)(guang)懸浮液的(de)給料量，如圖2-11所(suo)示，用(yong)量多，效(xiao)(xiao)(xiao)率(磨(mo)除量)增高，但過(guo)(guo)量時，效(xiao)(xiao)(xiao)率反而降(jiang)(jiang)低，各種不同的(de)條件(jian)下(xia)都有最適宜(yi)的(de)用(yong)量。

　　(2)拋光盤的轉速和壓力(li)

　　拋光盤(pan)(pan)的轉(zhuan)速(su)(su)和(he)壓力(li)與拋光效(xiao)率之間存在(zai)著正比關系。轉(zhuan)速(su)(su)和(he)壓力(li)增(zeng)(zeng)(zeng)大，拋光材料(liao)和(he)玻(bo)璃作用的機會增(zeng)(zeng)(zeng)多、加(jia)劇，玻(bo)璃表面(mian)溫度增(zeng)(zeng)(zeng)高，反應加(jia)速(su)(su):反之就低。拋光盤(pan)(pan)轉(zhuan)速(su)(su)和(he)壓力(li)增(zeng)(zeng)(zeng)大的同時(shi)必(bi)須相應增(zeng)(zeng)(zeng)加(jia)地光村料(liao)懸浮液給料(liao)量，否(fou)則，玻(bo)璃溫度過高易破(po)，也容易擦傷。