相(xiang)對于本線low E玻璃(li)而(er)音，在線LowE政(zheng)確所要求的技(ji)術性較高，主要體(ti)現(xian)在以下幾個方面:

　　①鍍膜前(qian)驅(qu)體配方的研究

　　劑(ji)的配(pei)比。應根據(ju)Low~E玻璃的性能指標，確定(ding)有機錫化(hua)合物、有機硅化(hua)合物及各種助(zhu)。

　　②干涉(she)(she)色的(de)控(kong)制(zhi)LowE玻璃膜(mo)層(ceng)(ceng)為摻雜的(de)二(er)氧化錫，折射率(lv)較(jiao)高(1.8左右)， 因此(ci)易產(chan)生干涉(she)(she)條(tiao)紋引起(qi)彩虹(hong)。所(suo)以應在Low-E膜(mo)層(ceng)(ceng)與玻璃之間加一層(ceng)(ceng)光學(xue)過(guo)渡層(ceng)(ceng)， 以便消除內反射引起(qi)的(de)彩虹(hong)。

　　③膜厚度的控制

　　Low-E膜(mo)層太薄(bo)，達(da)不(bu)(bu)到(dao)紅(hong)(hong)外反(fan)射率(lv)、輻(fu)(fu)射率(lv)、表(biao)面電阻達(da)不(bu)(bu)到(dao)要求;而膜(mo)層太厚(hou)時(shi)，紅(hong)(hong)外反(fan)射、表(biao)面電阻、輻(fu)(fu)射率(lv)的指(zhi)標很好，但可(ke)見光透過率(lv)、霧度的指(zhi)標不(bu)(bu)好，因此應合理選(xuan)擇膜(mo)層厚(hou)度，同時(shi)，由于Low-E玻(bo)璃的底(di)膜(mo)、頂(ding)膜(mo)性能(neng)不(bu)(bu)一樣，故厚(hou)度需適當調節。

　　④膜層均勻(yun)性的控制(zhi)

　　在鍍(du)(du)膜(mo)過(guo)程中，極易出現膜(mo)層(ceng)不均勻而影響(xiang)產(chan)品質量的(de)(de)問題，主要是(shi)粉末(mo)液滴相對于物料蒸氣(qi)的(de)(de)顆粒要大得多，而且物料的(de)(de)性(xing)質決定了(le)其鍍(du)(du)膜(mo)結構，而氣(qi)體就可以采取多層(ceng)料，多層(ceng)排廢的(de)(de)辦法，使(shi)多層(ceng)鍍(du)(du)膜(mo)成功解決了(le)膜(mo)層(ceng)均勻性(xing)問題。

　　⑤氣幕的設計

　　Low-E玻璃的(de)(de)膜層是氧(yang)化(hua)物(wu)形成的(de)(de)薄膜，在鍍(du)(du)膜中(zhong)要引(yin)人氧(yang)氣(qi)參(can)加反(fan)應，對于(yu)錫(xi)槽(cao)中(zhong)介人氧(yang)氣(qi)是極(ji)其有害的(de)(de)，一旦氧(yang)氣(qi)泄漏(lou)到錫(xi)槽(cao)中(zhong)將產(chan)生不可估計(ji)(ji)的(de)(de)損失(shi)，為避(bi)免(mian)這種情況，應在鍍(du)(du)膜器(qi)上設計(ji)(ji)專用的(de)(de)氣(qi)幕，從(cong)而避(bi)免(mian)氧(yang)氣(qi)的(de)(de)泄漏(lou)。