離線磁控(kong)濺(jian)射(she)鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)可分(fen)為陽光控(kong)制鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)和(he)低(di)(di)輻(fu)(fu)射(she)鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)兩大類(lei)。兩大類(lei)產(chan)品在(zai)實際生(sheng)產(chan)過程中，其不(bu)同缺陷(xian)比例各不(bu)相(xiang)同，由于(yu)低(di)(di)輻(fu)(fu)射(she)鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)的(de)缺陷(xian)種類(lei)更多，且涉(she)及(ji)范圍更廣，其中包括了(le)大部分(fen)陽光控(kong)制鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)的(de)所(suo)列缺陷(xian)，故下文(wen)在(zai)兩種膜(mo)缺陷(xian)相(xiang)近的(de)情況(kuang)下只在(zai)低(di)(di)輻(fu)(fu)射(she)鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)闡述其缺陷(xian)及(ji)處理方法(fa)，而(er)陽光控(kong)制鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)類(lei)似的(de)質量(liang)缺陷(xian)不(bu)再贅述。

2 低輻射鍍膜玻璃的缺陷與分析
    低輻(fu)射(she)鍍膜玻璃(li)又稱“ Low-E玻璃(li)”，作(zuo)為磁控濺射(she)鍍膜玻璃(li)的一種，離線(xian)“ Low-E”與(yu)陽光膜不同，大多數都屬于軟膜，故其缺陷是可能伴隨著生產(chan)、鍍膜后加工以及運(yun)輸的整個過程中，需要根(gen)據具體情況(kuang)進行(xing)判(pan)斷。

2.1 針孔、斑點缺陷及成因
    針孔：從鍍膜玻璃(li)透(tou)射(she)方向(xiang)看，相(xiang)對(dui)(dui)于(yu)整體(ti)出現部(bu)分透(tou)明或(huo)半(ban)透(tou)明，沒有完整附著膜層的(de)(de)點狀缺陷。斑(ban)點：從鍍膜玻璃(li)的(de)(de)透(tou)射(she)方向(xiang)看，相(xiang)對(dui)(dui)膜層整體(ti)色澤(ze)較(jiao)暗的(de)(de)點狀缺陷。

2.1.1 原片新鮮度不夠
    由于玻璃原(yuan)片存放時間長或者儲(chu)存條件惡劣，使浮法玻璃表面污(wu)染嚴重，雖(sui)然(ran)在鍍(du)膜(mo)前經(jing)過去離子水清洗，但仍(reng)無法徹(che)底(di)清除表面污(wu)染區(qu)，鍍(du)膜(mo)時就會出現膜(mo)層結(jie)構不(bu)牢的(de)情況(kuang)。針對(dui)這種情況(kuang)，要采用新鮮的(de)玻璃原(yuan)片，另外，保鮮期與季節、儲(chu)存環境還有很大(da)關系。因此(ci)，針對(dui)不(bu)同廠家，不(bu)同季節對(dui)原(yuan)片會有不(bu)同的(de)要求，需各鍍(du)膜(mo)廠家自行(xing)把握，一般情況(kuang)下(xia)30天內為宜(yi)。

2.1.2 清洗機清洗能力下降
    清(qing)(qing)洗(xi)(xi)是鍍膜之前的(de)(de)(de)最重(zhong)要(yao)環(huan)節，清(qing)(qing)洗(xi)(xi)機(ji)的(de)(de)(de)狀態直接影(ying)響著鍍膜產(chan)(chan)品的(de)(de)(de)表面質量。一旦清(qing)(qing)洗(xi)(xi)機(ji)的(de)(de)(de)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)能力不夠(gou)，玻璃(li)表面的(de)(de)(de)殘留雜質將形成點狀或(huo)塊狀缺陷。造成清(qing)(qing)洗(xi)(xi)機(ji)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)質量下降的(de)(de)(de)原因(yin)包(bao)括：水受到(dao)污(wu)染（油污(wu)、雜質、微生物等），導致無法洗(xi)(xi)干凈；風機(ji)過濾(lv)裝置、水的(de)(de)(de)過濾(lv)裝置太臟或(huo)故障導致過濾(lv)失效；水溫(wen)、水壓未達到(dao)要(yao)求；清(qing)(qing)洗(xi)(xi)機(ji)高度不夠(gou)準確或(huo)者清(qing)(qing)洗(xi)(xi)速度過快。針對這種情況(kuang)(kuang)需要(yao)視生產(chan)(chan)的(de)(de)(de)產(chan)(chan)品狀況(kuang)(kuang)定期對清(qing)(qing)洗(xi)(xi)機(ji)進行維(wei)護保養(yang)(yang)，使其處(chu)于最佳狀態，另(ling)外每(mei)天(tian)的(de)(de)(de)小保養(yang)(yang)和(he)巡檢也不能忽視。

2.1.3 掉渣、崩渣
    掉渣(zha)(zha)(zha)和崩渣(zha)(zha)(zha)，這也是形(xing)成(cheng)針孔的(de)(de)(de)一(yi)個原因(yin)(yin)。而(er)導致崩渣(zha)(zha)(zha)、掉渣(zha)(zha)(zha)的(de)(de)(de)原因(yin)(yin)又分(fen)為幾種，首(shou)先在(zai)(zai)鍍膜(mo)生產過(guo)程中并非(fei)始終單一(yi)生產一(yi)個品種，在(zai)(zai)不(bu)同的(de)(de)(de)產品間(jian)變換(huan)時(shi)，所(suo)使用的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)不(bu)同或(huo)同材(cai)(cai)(cai)料會使用不(bu)同的(de)(de)(de)功率，由(you)于(yu)蓋板(ban)、擋板(ban)、底(di)板(ban)均(jun)為金屬，均(jun)有一(yi)定的(de)(de)(de)熱脹(zhang)冷(leng)縮，當其(qi)(qi)(qi)(qi)熱脹(zhang)冷(leng)縮時(shi)覆(fu)蓋在(zai)(zai)其(qi)(qi)(qi)(qi)表面的(de)(de)(de)濺射物的(de)(de)(de)膨脹(zhang)系數與(yu)金屬不(bu)同，故形(xing)成(cheng)龜裂(lie)、崩開(kai)(kai)，掉落到玻璃(li)表面形(xing)成(cheng)針孔、斑(ban)點。針對這種情況一(yi)般(ban)做(zuo)法是在(zai)(zai)換(huan)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)時(shi)對裝(zhuang)進真(zhen)空腔體前(qian)的(de)(de)(de)蓋板(ban)、底(di)板(ban)進行徹(che)底(di)的(de)(de)(de)噴(pen)砂(sha)處(chu)理，噴(pen)砂(sha)以(yi)噴(pen)出新鮮斷面為好。另外(wai)一(yi)種做(zuo)法就是在(zai)(zai)這些(xie)關鍵的(de)(de)(de)部(bu)件(jian)表面進行特殊處(chu)理，使其(qi)(qi)(qi)(qi)能夠(gou)阻擋濺射物輕易脫落或(huo)彈(dan)開(kai)(kai)。其(qi)(qi)(qi)(qi)次，除了靶(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)本身(shen)質(zhi)量問題(ti)外(wai)，部(bu)分(fen)含(han)Zn材(cai)(cai)(cai)質(zhi)的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)（如ZnAl、ZnSn）在(zai)(zai)使用一(yi)段時(shi)間(jian)后(hou)會出現周(zhou)(zhou)期性掉小渣(zha)(zha)(zha)現象，這種現象很難(nan)避免，需要對其(qi)(qi)(qi)(qi)進行常(chang)規(gui)的(de)(de)(de)燒(shao)靶(ba)(ba)來解決。同時(shi)陰極蓋板(ban)的(de)(de)(de)漏氣(qi)也會導致靶(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)掉渣(zha)(zha)(zha)，所(suo)以(yi)，靶(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)周(zhou)(zhou)圍的(de)(de)(de)氣(qi)密性需要在(zai)(zai)換(huan)靶(ba)(ba)前(qian)后(hou)格外(wai)注(zhu)意。

2.2 脫膜缺陷及成因
    脫膜：產(chan)品表面(mian)膜層脫落(luo)，經(jing)擦拭后(hou)出現點狀或者(zhe)片(pian)狀的局部(bu)的透光增強。

2.2.1 基片受到污染
    基片在即將鍍膜(mo)時受到(dao)污染（油污、水(shui)），導致(zhi)(zhi)污染區域(yu)與膜(mo)層之(zhi)間附著力不強(qiang)，鍍膜(mo)后(hou)經過擦(ca)拭或清洗污染物脫落導致(zhi)(zhi)脫膜(mo)。對此應加強(qiang)對鍍膜(mo)前的產品和(he)設備進行(xing)巡(xun)檢，減少意外情況的出現。

2.2.2 腔體真空度不夠
    對(dui)于(yu)磁控濺射鍍(du)膜(mo)玻璃(li)，需在(zai)高(gao)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)環境下進行，濺射室(shi)本(ben)底真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)需達到10-6mbar才能更有效地鍍(du)膜(mo)。若(ruo)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)不夠時，勉強鍍(du)膜(mo)會出現(xian)批(pi)量(liang)性的膜(mo)層結合不牢，用酒精擦洗時會出現(xian)大(da)量(liang)塊狀透光區。針對(dui)這種情況，要求第(di)一(yi)時間查看真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)，如(ru)果本(ben)底真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)異常則(ze)要馬(ma)上進行檢(jian)漏(lou)，并對(dui)漏(lou)點進行堵塞。只有提高(gao)濺射室(shi)內的本(ben)底真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)，并達到要求的情況下才能進行鍍(du)膜(mo)。

2.2.3 Ag與SiNx的結合
    由(you)于Ag與SiNx的(de)附著力不強，會導致產(chan)品擦拭嚴重脫膜(mo)以及中空洗刷會整板氧化。因(yin)此，Ag層前后的(de)介質(zhi)層不能用SiNx直(zhi)接替代(dai)，需要(yao)NiCr等必要(yao)材料(liao)進(jin)行保護(hu)。

2.2.4 膜層氧化
    膜層氧化是造成脫膜的又一主要因素，而導致氧化的原因可以分為以下幾種：
    首先，Ag的保護層太薄造成氧化，此現象容易出現在高透膜系。對于此類膜系，可采取外保護層適當加厚，并且在生產過程中不允許減薄保護層，以及在產品表面貼新鮮的保護膜方法處理。
    其次，陰極之間隔離系數不合格，外部金屬保護層被氧化。例如，當隔系數小于20時，若有氧氣竄入，會影響到NiCr靶的濺射率及氧氣會與NiCr金屬離子產生反應，生成氧化鎳鉻，NiCr保護層在真空室內已經被氧化。對此可采取提高NiCr靶的濺射壓力，增加氣體流量、與其靶相鄰的氧化物，在氣體比例不變的情況下，減少整體的氣體流量、增加NiCr的功率、在陰極位之間加Ar氣形成氣墻，減少氣體之間串氣、增加陰極位之間的隔氣能力（增加擋板或分子泵）。
    最后，是在存放、后續加工過程中的不當處理導致氧化。生產時空氣濕度太大，空氣中含水量過高。在國內每年的5-10月份是鍍膜玻璃易氧化的時期，尤其是雨天。針對這種情況，一方面在鍍膜下片打包時要加入足夠量的干燥劑密封嚴實，必要時充入氮氣來保護。另一方面，要盡可能地縮短等待中空生產的時間。
    鍍膜下片時手套上汗水粘到玻璃上。由于人出汗時，汗水中含有大量的硫化物，會與鍍膜玻璃中的銀發生反應，生成黑色的硫化銀，從而形成氧化層。經過實驗，因汗水粘過的鍍膜玻璃最短在一小時內會氧化。因此，一方面保持手套干燥，另一方面汗水觸摸過的鍍膜玻璃要立即清洗，并盡快合成中空玻璃。
    中空玻(bo)璃處理(li)不(bu)當(dang)(dang)。由于中空玻(bo)璃處理(li)不(bu)當(dang)(dang)，如漏氣、漏分(fen)子篩(shai)等(deng)等(deng)都可(ke)能會引起合好中空后的(de)鍍膜玻(bo)璃被氧化，尤其是(shi)(shi)丁基(ji)膠不(bu)飽滿(man)和漏分(fen)子篩(shai)對其都是(shi)(shi)致(zhi)命威脅。因此，如何提(ti)高中空玻(bo)璃質(zhi)量是(shi)(shi)避免鍍膜玻(bo)璃后期批量氧化的(de)一個關(guan)鍵因素。

2.3 斑紋缺陷及成因
    斑紋：從鍍膜(mo)玻璃(li)的(de)(de)(de)反射方向看，膜(mo)層表面色(se)澤發生變化的(de)(de)(de)云狀(zhuang)、放射狀(zhuang)或條紋狀(zhuang)的(de)(de)(de)缺(que)陷，一般呈現(xian)暗灰色(se)，若(ruo)產品經過鋼化則(ze)無法清洗掉。部分(fen)缺(que)陷鍍膜(mo)后肉(rou)眼可看出(chu)與(yu)其它部分(fen)存在(zai)(zai)顏色(se)差異，有的(de)(de)(de)在(zai)(zai)玻璃(li)面暗光或膜(mo)面強光下清晰(xi)可見。

2.3.1 云狀斑紋
    主要是(shi)由于原片(pian)新(xin)鮮度不夠，Na+外(wai)滲(shen)，也(ye)(ye)就是(shi)通常所說的發(fa)霉。經過鋼(gang)化(hua)處(chu)理無(wu)法(fa)徹底清除，故形成云霧(wu)狀斑紋。其(qi)解決方(fang)法(fa)除了(le)確保使用(yong)新(xin)鮮原片(pian)外(wai)，可(ke)采(cai)用(yong)拋(pao)光(guang)粉進行拋(pao)光(guang)處(chu)理，再進行鍍膜，可(ke)以通過提(ti)高(gao)玻璃與膜層(ceng)的結合力從而(er)減(jian)少斑紋的產生(sheng)。當然(ran)原片(pian)存放時(shi)間(jian)過長(chang)，使用(yong)拋(pao)光(guang)粉也(ye)(ye)是(shi)無(wu)效(xiao)的。

2.3.2 放射狀斑紋
    放射(she)(she)狀斑(ban)紋，主要(yao)是(shi)由于清洗機問題，如風刀未吹(chui)干(gan)凈，進行鍍膜時會出(chu)現(xian)放射(she)(she)狀斑(ban)紋。其解決方法為檢查風壓及風刀角(jiao)度(du)，并(bing)保證風刀內無異物。同時檢查純水電阻率(lv)、水壓、水量(liang)是(shi)否達(da)到要(yao)求(qiu)。輥道是(shi)否處于同一水平面狀態，毛刷的干(gan)涉(she)量(liang)是(shi)否正(zheng)常。

2.3.3 條紋狀斑紋
    條紋狀斑紋，有的(de)是由于鍍膜設備(bei)(bei)內局(ju)部(bu)氣壓(ya)發生變化引起的(de)，有的(de)是部(bu)分陰極與腔體之間絕(jue)緣(yuan)性(xing)差放電(dian)導致，多(duo)出現于較厚的(de)產品。只(zhi)有依靠各生產廠家自己的(de)經驗及對相關設備(bei)(bei)進(jin)行逐點排查，排除后方可正(zheng)常生產。

2.4 暗道缺陷及成因
    暗道：從(cong)鍍膜(mo)玻璃的(de)反(fan)射方向看，膜(mo)層(ceng)表面(mian)亮度(du)或(huo)反(fan)射色異于整體(ti)的(de)條狀區(qu)域(yu)，可見程度(du)取決于它們和周圍(wei)膜(mo)層(ceng)的(de)厚(hou)度(du)差異。

2.4.1 設備、材料原因
    暗道(dao)的產生(sheng)絕大部(bu)分是(shi)由于鍍膜時其(qi)中一個(ge)或多個(ge)陰極(ji)產生(sheng)電弧或跳閘引起。避免暗道(dao)，首先保證(zheng)電源正常工作，其(qi)次保證(zheng)靶材的質量和表面光潔度來減(jian)少電弧，這樣暗道(dao)就能(neng)大量減(jian)少。

2.4.2 傳動問題
    傳動問題包(bao)括在生產中傳動停(ting)止或速度(du)不一致，導致鍍出(chu)的膜層厚度(du)明顯不均，可能(neng)是設備原(yuan)因也可能(neng)是人為操作失(shi)誤。應避免(mian)主觀(guan)失(shi)誤，同時定期檢查傳動有(you)無異常(chang)。

2.4.3 均勻性原因
    均勻(yun)性(xing)太差(cha)導(dao)致某一(yi)層(ceng)或(huo)某幾層(ceng)膜(mo)(mo)疊(die)加后出現(xian)膜(mo)(mo)厚不均而(er)產生條狀色差(cha)，需(xu)要根據反射差(cha)異具體分析，一(yi)般需(xu)要對(dui)某一(yi)層(ceng)膜(mo)(mo)的(de)整體均勻(yun)性(xing)進(jin)行(xing)調節，必要時對(dui)影響這一(yi)層(ceng)的(de)陰(yin)極磁場均勻(yun)性(xing)進(jin)行(xing)調整，最終使每(mei)一(yi)膜(mo)(mo)層(ceng)膜(mo)(mo)的(de)膜(mo)(mo)厚達(da)到均勻(yun)。

2.5 色差缺陷及成因
    色差：從反(fan)射(she)或(huo)透(tou)過(guo)方向觀察(cha)，顏色同(tong)標準樣片或(huo)批(pi)次產品(pin)(pin)比較，用肉眼可觀察(cha)到的(de)(de)差異。一般情況(kuang)下在同(tong)一種(zhong)產品(pin)(pin)中，片與片之間對(dui)比產生的(de)(de)差異。分為正面反(fan)射(she)色差、側面反(fan)射(she)色差、透(tou)過(guo)色色差和邊緣(yuan)效應。

2.5.1 正面反射色差
    正(zheng)面(mian)觀(guan)察顏色(se)差異產(chan)生(sheng)的原(yuan)因主要(yao)(yao)有兩個方面(mian)，一方面(mian)為設(she)備的不穩定(ding)或(huo)故障導致生(sheng)產(chan)過程中氣氛、濺射效率發(fa)生(sheng)變化導致，另一方面(mian)為人為失誤導致，如工藝水(shui)平差、調試不合理、顏色(se)標準(zhun)不統一、著色(se)玻(bo)璃放反或(huo)基片差異等原(yuan)因。需要(yao)(yao)具體分析(xi)，針對性(xing)解決。

2.5.2 側面反射色差
    側面顏(yan)色(se)差異(yi)大多出(chu)現在(zai)雙銀(yin)和(he)(he)三(san)銀(yin)產(chan)品(pin)(pin)中，一(yi)般表現為正面對(dui)比觀察(cha)顏(yan)色(se)合格，而當觀察(cha)者與產(chan)品(pin)(pin)成一(yi)定角度（如45°）對(dui)比觀察(cha)則出(chu)現反(fan)射顏(yan)色(se)不(bu)同(tong)(tong)。由于(yu)雙銀(yin)或三(san)銀(yin)產(chan)品(pin)(pin)，包(bao)括4層(ceng)(ceng)以上的(de)(de)金(jin)屬層(ceng)(ceng)（Ag/NiGr），在(zai)二(er)者中間(jian)(jian)有較(jiao)厚(hou)的(de)(de)介質層(ceng)(ceng)（ZnSn、SiNx），光(guang)(guang)在(zai)這種膜(mo)層(ceng)(ceng)結構(gou)中傳播所發生(sheng)的(de)(de)反(fan)射、折(zhe)射較(jiao)多，再加之總體(ti)膜(mo)層(ceng)(ceng)厚(hou)度較(jiao)厚(hou)，極易使光(guang)(guang)在(zai)產(chan)品(pin)(pin)表面發生(sheng)干涉(she)，致使在(zai)不(bu)同(tong)(tong)角度光(guang)(guang)的(de)(de)干涉(she)量不(bu)同(tong)(tong)，因此就呈現出(chu)不(bu)同(tong)(tong)的(de)(de)顏(yan)色(se)（干涉(she)色(se)）。金(jin)屬層(ceng)(ceng)與介質層(ceng)(ceng)的(de)(de)比例決定著干涉(she)色(se)的(de)(de)整體(ti)變化趨(qu)勢(shi)，故(gu)在(zai)各(ge)批(pi)次生(sheng)產(chan)中必須(xu)保證(zheng)(zheng)各(ge)個膜(mo)層(ceng)(ceng)的(de)(de)厚(hou)度一(yi)致，且膜(mo)厚(hou)均勻性(xing)差異(yi)較(jiao)小，否則即使是同(tong)(tong)一(yi)批(pi)次生(sheng)產(chan)也(ye)會(hui)出(chu)現片(pian)與片(pian)之間(jian)(jian)側面顏(yan)色(se)不(bu)同(tong)(tong)，甚至(zhi)是同(tong)(tong)一(yi)片(pian)產(chan)品(pin)(pin)左右差異(yi)。對(dui)此在(zai)基片(pian)相同(tong)(tong)的(de)(de)情況下要(yao)嚴格按照(zhao)標(biao)準光(guang)(guang)譜進行調(diao)試和(he)(he)生(sheng)產(chan)（光(guang)(guang)譜對(dui)顏(yan)色(se)和(he)(he)干涉(she)色(se)的(de)(de)控制(zhi)具有唯一(yi)性(xing)），同(tong)(tong)時要(yao)會(hui)根據各(ge)點光(guang)(guang)譜判斷膜(mo)層(ceng)(ceng)厚(hou)度是否達標(biao)。另外對(dui)于(yu)可(ke)鋼(gang)化產(chan)品(pin)(pin)受(shou)到鋼(gang)化溫度和(he)(he)加熱(re)時間(jian)(jian)的(de)(de)影響(xiang)也(ye)會(hui)造成批(pi)次間(jian)(jian)干涉(she)色(se)不(bu)同(tong)(tong)，因此對(dui)于(yu)可(ke)鋼(gang)化產(chan)品(pin)(pin)需要(yao)經過實驗來具體(ti)驗證(zheng)(zheng)，有針對(dui)性(xing)的(de)(de)解(jie)決。

2.5.3 透過色色差
    一般(ban)情況下主要是基片差異(yi)、真(zhen)空環境差異(yi)和(he)人為調試不到位產生，應(ying)加強對基片的監(jian)測、嚴格遵守工藝制度、提高(gao)工藝水平。避免主觀判斷失(shi)誤造成(cheng)的損(sun)失(shi)。

2.5.4 邊緣效應
    在鍍膜(mo)產品四周或兩邊(bian)(bian)邊(bian)(bian)部(bu)100mm范圍內(nei)出(chu)現與(yu)中(zhong)部(bu)顏色(se)差(cha)異(yi)的情(qing)況，多出(chu)現在雙銀(yin)(yin)、三銀(yin)(yin)產品中(zhong)，受產品擺(bai)放寬度(du)、陰(yin)極使用功率(lv)等影響(xiang)，對此(ci)適當降低各(ge)陰(yin)極功率(lv)和提高(gao)擺(bai)放寬度(du)，同(tong)時保持擺(bai)放寬度(du)差(cha)距不能太大，能夠降低邊(bian)(bian)緣效應的色(se)差(cha)。

2.6 白點、燒邊、掉膜缺陷及成因
    表現為膜面白斑透光，有的有凹凸感，四周邊部發黃，刷洗后掉膜，出現于可鋼化大板的鋼化過程中。
    此種(zhong)缺陷(xian)的出現(xian)絕大(da)部分受鍍(du)膜(mo)腔體真空度、玻(bo)璃基片不新鮮、產品(pin)底層膜(mo)厚不夠(gou)及鋼化的溫度過高影響。另外要注(zhu)意的是(shi)鍍(du)膜(mo)玻(bo)璃的鋼化實驗不是(shi)一次成(cheng)型(xing)，必要時需多做兩次實驗才具有實際意義。

2.7 劃傷、壓傷缺陷及成因
 ;   鍍膜玻(bo)璃表面被硬物剮(gua)蹭、刻畫(hua)或產品(pin)之間相(xiang)互摩(mo)擦、碰撞所留下的(de)線(xian)狀、點狀痕跡，用手摸有粗糙或溝壑(he)感(gan)，表現(xian)為透光率增高(gao)或膜層被破壞。可(ke)見程度取決(jue)于它們(men)的(de)長(chang)度、寬度、大(da)小、位置和(he)分(fen)布。

2.7.1 劃傷
    劃(hua)(hua)傷(shang)的(de)(de)(de)缺陷大(da)多出現在鍍(du)膜(mo)前(qian)(qian)和(he)鍍(du)膜(mo)中(zhong)，很少一(yi)部分是(shi)(shi)在鍍(du)膜(mo)后的(de)(de)(de)運輸中(zhong)，由(you)于(yu)(yu)隔(ge)(ge)離和(he)固定措(cuo)施(shi)較(jiao)(jiao)差導(dao)致(zhi)產品相互間摩擦(ca)產生劃(hua)(hua)傷(shang)。而鍍(du)膜(mo)前(qian)(qian)的(de)(de)(de)劃(hua)(hua)傷(shang)多為不規則狀(zhuang)，大(da)多為上(shang)道工(gong)序所帶，如上(shang)下(xia)片、轉(zhuan)運、自爆等。只(zhi)有依靠提高操(cao)作(zuo)人員的(de)(de)(de)主(zhu)觀能動性(xing)，采取措(cuo)施(shi)來積(ji)極預防(fang)。鍍(du)膜(mo)中(zhong)的(de)(de)(de)劃(hua)(hua)傷(shang)基本上(shang)是(shi)(shi)由(you)設備造(zao)成(cheng)的(de)(de)(de)，呈現規則形狀(zhuang)，一(yi)般是(shi)(shi)平行(xing)于(yu)(yu)傳(chuan)(chuan)動方向的(de)(de)(de)直(zhi)線。膜(mo)面(mian)劃(hua)(hua)傷(shang)大(da)部分來源于(yu)(yu)分子(zi)泵(beng)蓋板(ban)(ban)下(xia)沉或氣體(ti)分隔(ge)(ge)板(ban)(ban)下(xia)沉以及(ji)包網跳絲所致(zhi)，需(xu)要(yao)回(hui)氣處理。玻璃面(mian)劃(hua)(hua)傷(shang)主(zhu)要(yao)是(shi)(shi)由(you)于(yu)(yu)底板(ban)(ban)或傳(chuan)(chuan)送輥(gun)間丁(ding)字板(ban)(ban)積(ji)膜(mo)太厚(hou)以及(ji)受(shou)熱變形引起。可采用(yong)較(jiao)(jiao)重(zhong)的(de)(de)(de)未磨(mo)邊玻璃或鐵板(ban)(ban)在濺射(she)室內多次鏟渣來減輕。另外(wai)輥(gun)道故障或產品下(xia)彎超標也會導(dao)致(zhi)嚴重(zhong)劃(hua)(hua)傷(shang)，應加強檢查。

3 陽光控制鍍膜玻璃的缺陷與分析
    陽光控制鍍膜玻璃是對波長350nm-1800nm的太陽光具有一定控制作用的鍍膜玻璃，主要是在玻璃表面鍍金屬或金屬化合物膜，使玻璃呈顯豐富多彩并具有新的光、熱性能。與“ Low-E玻璃”相比膜層較厚并且較硬，抗外界影響能力更強。
    耐研磨、酸堿性能較(jiao)差。表(biao)現為經研磨和(he)酸堿試驗(yan)后不(bu)符合要求(qiu)(qiu)，主要原因為腔室真空度未達到要求(qiu)(qiu)，膜層附(fu)著力差、最外(wai)保護層太薄或靶材用(yong)錯(cuo)未起到保護作(zuo)用(yong)、靶材的純度達不(bu)到要求(qiu)(qiu)、工藝氣體流(liu)量過大。需要根據差距情況具(ju)體分析和(he)排查。

4 結論
    在生(sheng)產加(jia)工過程中，任何一(yi)道環節都有可能(neng)(neng)會(hui)對(dui)鍍(du)(du)膜玻(bo)(bo)璃造成傷害，另外，加(jia)工周期時間越(yue)長(chang)，產生(sheng)缺(que)陷(xian)(xian)(xian)的幾率也就越(yue)大。因此(ci)，對(dui)于(yu)鍍(du)(du)膜玻(bo)(bo)璃控制除了鍍(du)(du)膜工序外，后(hou)續(xu)加(jia)工工序都要(yao)做好相應(ying)的措施(shi)，才能(neng)(neng)減少(shao)缺(que)陷(xian)(xian)(xian)的產生(sheng)。不論是陽光控制膜，還是低輻射(she)鍍(du)(du)膜玻(bo)(bo)璃，只要(yao)找到其缺(que)陷(xian)(xian)(xian)形(xing)成的原因，就能(neng)(neng)減少(shao)缺(que)陷(xian)(xian)(xian)的產生(sheng)。