將襯(chen)底(di)(di)放置于(yu)真空(kong)(kong)中(zhong)會促使揮發(fa)雜質的(de)(de)(de)蒸(zheng)發(fa)。這種(zhong)方法的(de)(de)(de)效(xiao)果(guo)與襯(chen)底(di)(di)在(zai)(zai)真空(kong)(kong)中(zhong)保留時間(jian)的(de)(de)(de)長短、溫(wen)(wen)(wen)度(du)、污染物的(de)(de)(de)類型及襯(chen)底(di)(di)材料有(you)(you)關。在(zai)(zai)室溫(wen)(wen)(wen)高(gao)真空(kong)(kong)條(tiao)件(jian)下(xia)，局部壓力(li)對解(jie)(jie)吸(xi)的(de)(de)(de)影(ying)響(xiang)是(shi)可以忽略的(de)(de)(de)，解(jie)(jie)吸(xi)是(shi)由(you)加(jia)熱產生(sheng)的(de)(de)(de)。加(jia)熱玻璃表(biao)(biao)(biao)面促使吸(xi)附的(de)(de)(de)水分(fen)子(zi)和各種(zhong)碳氫化合(he)物分(fen)子(zi)的(de)(de)(de)解(jie)(jie)吸(xi)作用(yong)(yong)有(you)(you)不同(tong)程(cheng)度(du)的(de)(de)(de)增加(jia)，這與溫(wen)(wen)(wen)度(du)有(you)(you)關。外加(jia)溫(wen)(wen)(wen)度(du)在(zai)(zai)100~850C，需要(yao)加(jia)熱的(de)(de)(de)時間(jian)在(zai)(zai)10~60min。在(zai)(zai)超高(gao)真空(kong)(kong)下(xia)，為(wei)了(le)得到原子(zi)級清潔表(biao)(biao)(biao)面，加(jia)熱溫(wen)(wen)(wen)度(du)必須高(gao)于(yu)450C才行(xing)。對于(yu)較高(gao)溫(wen)(wen)(wen)度(du)襯(chen)底(di)(di)上淀積膜(制備特殊性質的(de)(de)(de)膜)的(de)(de)(de)情形，加(jia)熱清洗特別有(you)(you)效(xiao)。但是(shi)由(you)于(yu)加(jia)熱的(de)(de)(de)結果(guo)，也就會發(fa)生(sheng)某(mou)些碳氫化合(he)物聚合(he)成(cheng)較大的(de)(de)(de)團粒(li)(li)，并同(tong)時分(fen)解(jie)(jie)成(cheng)炭渣。然(ran)而高(gao)溫(wen)(wen)(wen)火焰(yan)(yan)處(chu)理(如(ru)氫-空(kong)(kong)氣火焰(yan)(yan))效(xiao)果(guo)很好，雖然(ran)這個過程(cheng)中(zhong)表(biao)(biao)(biao)面溫(wen)(wen)(wen)度(du)僅(jin)約100C，火焰(yan)(yan)中(zhong)存在(zai)(zai)著各種(zhong)離(li)子(zi)、雜質及高(gao)熱能分(fen)子(zi)。-般認為(wei)，火焰(yan)(yan)的(de)(de)(de)清潔作用(yong)(yong)與一種(zhong)輝光(guang)放電(dian)作用(yong)(yong)相類似，在(zai)(zai)輝光(guang)放電(dian)中(zhong)，離(li)子(zi)化的(de)(de)(de)高(gao)能粒(li)(li)子(zi)撞(zhuang)擊待(dai)清潔表(biao)(biao)(biao)面。